無塵室的濕度控製

無塵室的濕度控製

　　無塵室是汙染控製的基礎，控製空氣懸浮微粒濃度，從而達到適當的微粒潔淨度級別。

　　無塵室是指將一定空間範圍內之空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等之汙染物排除，並將室內之溫度、潔淨度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控製在某一需求範圍內，而所給予特別設計之房間，被設計成特殊構造的封閉區域。隨著生產行業越來越重視質量檢查，對缺陷零容忍和嚴格的生產實踐標準，如今對無塵室的要求越來越高。

　　無塵室的主要應用領域是電子工業、製藥、航空航天、汽車、信息技術以及許多需要更嚴格製造條件的其他領域。無塵室的應用範圍：顯微鏡下的小組件、電子設備和儀器的製造；對藥物和食品的無菌性和純度的日益增長的需求；用於醫學和生物應用的無菌環境。

　　無塵室的汙染物可以來自各種各樣的來源：空氣（潔淨度是根據無塵室的種類和灰塵的種類來確定的）、水分、化學品、植物本身和工作人員。

　　其中濕度會帶來許多影響：

　　微生物生長與腐蝕

　　工作台表麵的凝結導致生產計劃延誤和產品質量低劣

　　導致產品腐敗

　　下麵以半導體和製藥無塵室的高濕度為例做具體闡述：

　　在半導體無塵室裏，微電路和微芯片製造需要被稱為光阻的吸濕聚合物來屏蔽蝕刻過程的電路線。由於這種材料的吸濕性，它們會吸收許多水分，因此，微觀電路線被切斷或橋接，導致電路故障。此外，在半導體製造中，當晶片製造區域中的濕度水平波動時，可能出現大量的問題。烘烤時間通常會增加，整個過程變得更加難以控製。相對濕度超過35%就會使部件容易受到腐蝕。另外，當顯影溶劑噴到晶片上時，溶劑迅速蒸發，冷卻晶片時也足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水分可以改變顯影劑的特性，並被吸收到半導體層上。這可能會導致半導體腫脹和進一步的產品質量問題，需要額外的附加過程來補救。

　　在製藥無塵室的製藥設備中，高濕度會使細藥粉吸收水分，在藥片壓縮機上堵塞藥粉流動。由於吸濕引起的粉末不一致會讓藥片不成型和藥效丟失。濕度的變化意味著機器溫度和噴淋速率難以調節，導致熱損傷和濕氣侵入。此外，空氣工作管道中的濕度為細菌生長創造條件，潮濕的地方還會引起其他汙染。

　　一般來說，無塵室的相對濕度應控製在35-40%之間，這也是工作要求。如此嚴格的濕度控製就需要一台91看片网站视频機，而在线看片网址工業91看片网站视频機就是你的首選。

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